ในเทคโนโลยีอิเล็กทรอนิกส์ที่ทันสมัย photoresistors ถูกนำมาใช้มากขึ้นและได้กลายเป็นส่วนประกอบที่ขาดไม่ได้ของระบบควบคุมโฟโตอิเล็กทริกที่มีความแม่นยำสูงจำนวนมากบทความนี้มีวัตถุประสงค์เพื่อให้การอภิปรายเชิงลึกเกี่ยวกับหลักการทำงานวัสดุการผลิตการออกแบบโครงสร้างของ photoresistors และบทบาทสำคัญของพวกเขาในการแปลงโฟโตอิเล็กทริก
Photoresistor หรือที่รู้จักกันในชื่อท่อเบาเป็นส่วนประกอบ optoelectronic ที่ทำงานตามเอฟเฟกต์โฟโตอิเล็กทริกภายในแกนกลางของส่วนประกอบนี้คือวัสดุเซมิคอนดักเตอร์เช่นโลหะซัลไฟด์เซเลนีด์และเทลลูไรด์การเลือกวัสดุเหล่านี้เกี่ยวข้องกับประสิทธิภาพของ photoresistor ซึ่งมีผลกระทบโดยตรงต่อความไวต่อการตอบสนองต่อแสงเสถียรและช่วงสเปกตรัมที่ใช้งานได้ในระหว่างกระบวนการผลิตร่างกายที่มีแสงบาง ๆ และอิเล็กโทรดโอห์มมิกรูปทรงหวีจะเกิดขึ้นบนพื้นผิวฉนวนผ่านการเคลือบการฉีดพ่นการเผาและเทคนิคอื่น ๆ จากนั้นนำไปสู่การเชื่อมต่อและบรรจุในเคสปิดผนึกแสงเพื่อให้แน่ใจว่าสามารถรักษาความไวในระดับสูงในสภาพแวดล้อมที่ชื้น
หลักการทำงานของ photoresistor ขึ้นอยู่กับลักษณะของมันว่าการเปลี่ยนแปลงของมันเปลี่ยนแปลงภายใต้การกระทำของแสงในสภาพแวดล้อมที่ไม่มีแสงค่าความต้านทานของ photoresistor นั้นสูงมากเมื่อมันสัมผัสกับแสงถ้าพลังงานของโฟตอนเกินความกว้าง bandgap ของวัสดุเซมิคอนดักเตอร์อิเล็กตรอนในแถบวาเลนซ์สามารถดูดซับพลังงานของโฟตอนเหล่านี้ดังนั้นการเปลี่ยนไปสู่วงดนตรีนำและทิ้งหลุมที่มีประจุบวกไว้ในวงเวลเลนส์กระบวนการนี้เพิ่มจำนวนผู้ให้บริการในเซมิคอนดักเตอร์ทำให้เกิดความต้านทานลดลงและทำให้ความต้านทานของ photoresistor ลดลงยิ่งแสงมากขึ้นความต้านทานก็จะลดลงมากขึ้นเท่านั้นเมื่อแสงหยุดการรวมตัวกันใหม่ของอิเล็กตรอนและหลุมจะค่อยๆคืนความต้านทานของ photoresistor ให้อยู่ในสถานะดั้งเดิม
ผ่านการวิเคราะห์เชิงลึกของหลักการทำงานการผลิตวัสดุและการออกแบบโครงสร้างของ photoresistors เราจะเห็นว่า photoresistors ไม่เพียง แต่มีความยืดหยุ่นทางเทคนิคในระดับสูงและการใช้งานที่กว้าง แต่ยังสะท้อนความคิดที่เป็นนวัตกรรมในการออกแบบส่วนประกอบอิเล็กทรอนิกส์.ในระบบควบคุม Optoelectronic ในอนาคต Photoresistor จะยังคงมีบทบาทสำคัญต่อไปวางรากฐานที่แข็งแกร่งเพื่อให้ได้ความแม่นยำที่สูงขึ้นและแอพพลิเคชั่นที่หลากหลาย