현대 전자 기술에서, 포토 레스터는 점점 더 많이 사용되고 있으며 많은 고정밀 광전자 제어 시스템의 필수 구성 요소가되었습니다.이 기사는 작업 원리, 제조 재료, 포토 레스터의 구조 설계 및 광전 전환에서의 주요 역할에 대한 심층적 인 토론을 제공하는 것을 목표로합니다.
광 파이프라고도하는 Photoresistor는 내부 광전 효과를 기반으로 작동하는 광전자 구성 요소입니다.이 성분의 핵심은 금속 황화물, 셀레 나이드 및 텔루 라이드와 같은 반도체 재료입니다.이들 재료의 선택은 광, 안정성 및 적용 가능한 스펙트럼 범위에 대한 응답 민감도에 직접적인 영향을 미치는 포토 레스터의 성능과 관련이있다.제조 공정 동안, 얇은 포토 리스터 몸체 및 빗 모양의 저장 전극은 코팅, 분무, 소결 및 기타 기술을 통해 절연 기판 상에 형성 된 다음, 라이트 트랜스트 밀봉 케이스에 연결 및 포장된다.습한 환경에서 높은 감도를 유지할 수 있도록합니다.
포토 레스터의 작동 원리는 빛의 작용 하에서 저항이 변한다는 특징에 기초합니다.빛이없는 환경에서는 포토 레스터의 저항 값이 매우 높습니다.그것이 빛에 노출 될 때, 광자의 에너지가 반도체 재료의 밴드 갭 폭을 초과하면, 원자가 밴드의 전자는 이들 광자의 에너지를 흡수 할 수있다.따라서 전도 밴드로 전환하고 원자가 밴드에 긍정적으로 하전 된 구멍을 남깁니다.이 공정은 반도체의 담체의 수를 증가시켜 저항력이 감소하여 포토 레스터의 저항을 감소시킨다.빛이 강할수록 저항이 줄어 듭니다.빛이 정지되면, 전자와 구멍의 재조합은 점차 포토 레스터의 저항을 원래 상태로 되돌립니다.
포토 레스터의 작업 원리, 재료 제조 및 구조적 설계에 대한 심층 분석을 통해, 우리는 포토 레스터가 높은 수준의 기술적 유연성과 광범위한 응용 프로그램뿐만 아니라 전자 구성 요소 설계에서 혁신적인 사고를 반영한다는 것을 알 수 있습니다..향후 광전자 제어 시스템에서 Photoresistor는 계속해서 중요한 역할을 수행하여 더 높은 정밀도와 더 넓은 범위의 응용 프로그램을 달성하기위한 견고한 기반을 마련 할 것입니다.